10. 半導(dǎo)體生產(chǎn)含氟氣體排放

半導(dǎo)體生產(chǎn)過程采用多種含氟氣體。含氟氣體主要用于半導(dǎo)體制造業(yè)的晶圓制作過程中，具體用在等離子刻蝕和化學(xué)蒸汽沉積（CVD）反應(yīng)腔體的電漿清潔和電漿蝕刻。這些生產(chǎn)環(huán)節(jié)會有部分含氟氣體排放。《省級溫室氣體清單指南》要求計算和報告半導(dǎo)體制造的四氟化碳、三氟甲烷（CHF3或HFC-23）、六氟乙烷和六氟化硫的排放量。